Cina Wafer di silice fuso di precisione TTV 20μm PLTV≥95% Diametro 50,8mm per prestazioni ottimali in vendita
Cina Wafer di silice fuso di precisione TTV 20μm PLTV≥95% Diametro 50,8mm per prestazioni ottimali in vendita
  1. Cina Wafer di silice fuso di precisione TTV 20μm PLTV≥95% Diametro 50,8mm per prestazioni ottimali in vendita

Wafer di silice fuso di precisione TTV 20μm PLTV≥95% Diametro 50,8mm per prestazioni ottimali

Prezzo Negotiable
MOQ 5 pcs
Tempo di consegna 1-4 weeks
Marca CSIMC
Place of Origin China
Certification ISO:9001, ISO:14001
Model Number Fused Silica, Fused Quartz
Packaging Details Cassette/ Jar package, vaccum sealed
Payment Terms T/T
Supply Ability 20000 pcs/Month

Dettagli del prodotto

Specifiche del prodotto

Brand Name CSIMC Model Number Fused Silica, Fused Quartz
Certification ISO:9001, ISO:14001 Place of Origin China
Minimum Order Quantity 5 pcs Price Negotiable
Payment Terms T/T Supply Ability 20000 pcs/Month
Delivery Time 1-4 weeks Packaging Details Cassette/ Jar package, vaccum sealed
Nome del prodotto JGS1 JGS2 JGS3 Wafer di vetro e quarzo per una stabilità chimica di chiarezza ottica superiore Inchinati. ±20μm, ±25μm, ±40μm, ±40μm, ±60μm, ±60μm
PLTV ((<0,5um) ≥ 95% ((5 mm*5 mm) Rondamento del bordo Conforme alla norma SEMI M1.2/riferimento alla IEC62276
Applicazione Semiconduttore, MEMS Marchio JGS1 JGS2 JGS3
Superficie DSP, SSP, DSL TTV < 8μm, < 10μm, < 15μm, < 20μm, < 30μm, < 30μm

Descrizione del prodotto

Descrizione del prodotto:

La Wafer di silice fuso è disponibile in diverse dimensioni, spessori e finiture superficiali.JGS2, e JGS3 tipi di vetro e wafer di quarzo per una maggiore chiarezza ottica e stabilità chimica.a seconda dei requisiti applicativi.

La Wafer di silice fuso è nota per le sue eccellenti proprietà, tra cui resistenza alle alte temperature, bassa espansione termica e inertà chimica.che lo rende adatto per l'uso in applicazioni ad alta temperaturaIl prodotto ha un TTV inferiore a 8 μm,

La Wafer di silice fuso è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori, dove viene utilizzata come substrato per la fabbricazione di circuiti integrati.quando viene utilizzato come substrato per la deposizione di pellicole sottiliIl prodotto è utilizzato anche nell'elettronica, dove viene utilizzato come substrato per la fabbricazione di sensori e altri dispositivi elettronici.

La wafer di silice fuso è un componente essenziale nel processo di fabbricazione di vari dispositivi elettronici e ottici.compresa la resistenza alle alte temperatureIl prodotto è disponibile in diversi tipi, dimensioni, spessori e finiture superficiali, che lo rendono adatto a diverse applicazioni.Se hai bisogno di un Wafer di quarzo, Wafer a cristallo di silicio, o Wafer SiO2, la Wafer a silicio fuso è la soluzione perfetta per le vostre esigenze.

 

Caratteristiche:

  • Nome del prodotto: Wafer di silice fuso
  • Flat primario: 22 mm, 32,5 mm, 42,5 mm, 57,5 mm/intaglio, intaglio, intaglio
  • Spessore: 350 mm, 500 mm, 1000 mm
  • Tipo: silice fuso, quarzo fuso
  • TTV:
  • Materiale: silice fuso UV, quarzo fuso (JGS1, JGS2, JGS3)

Cercate una Wafer di Silice Cristallina o Wafer di Silice Vitreous? La nostra Wafer di Silice Fuso è la soluzione perfetta per le vostre esigenze.e Materiali disponibili, possiamo aiutarti a trovare il prodotto giusto per il tuo progetto.

 

Parametri tecnici:

Categoria di prodotto Wafer di silice cristallino
Marchio JGS1 JGS2 JGS3
Rondamento del bordo Conforme alla norma SEMI M1.2/riferimento alla IEC62276
Spessore 350um, 500um, 1000um
Superficie DSP, SSP, DSL
Piano primario 22 mm, 32,5 mm, 42,5 mm, 57,5 mm/intaglio, intaglio, intaglio
Lato lucidato Ra
LTV (5mmx5mm)
PLTV (( ≥ 95% ((5 mm*5 mm)
Inchinati. ±20μm, ±25μm, ±40μm, ±40μm, ±60μm, ±60μm
 

Applicazioni:

Il Wafer di silice fuso è ideale per l'uso in scenari che richiedono una elevata trasmissione di luce ultravioletta e visibile.150 mmIl wafer ha una bassa variazione di spessore (LTV) di

La Wafer di silice fuso può essere utilizzata in diversi scenari di applicazione tra cui microelettronica, MEMS e nanotecnologia.il prodotto è utilizzato nella produzione di circuiti integratiNel settore della nanotecnologia, il prodotto è utilizzato nella produzione di sensori, attuatori e dispositivi microfluidici.il prodotto è utilizzato nella produzione di nanodispositivi, nanosensori e dispositivi nanofluidici.

Il Wafer di silice fuso è adatto anche per applicazioni che richiedono una chiarezza ottica superiore e una stabilità chimica.che lo rende ideale per l'uso in ottica di precisioneIl prodotto è utilizzato anche nella produzione di lenti, prismi, specchi e filtri.

In conclusione, il Wafer di silice fuso BonTek è un prodotto versatile e affidabile adatto all'uso in vari settori e applicazioni.Con la sua elevata trasmissione di luce ultravioletta e visibile, bassa variazione di spessore, chiarezza ottica superiore e stabilità chimica, questo prodotto è la scelta ideale per chiunque cerchi un wafer di alta qualità.

 

Supporto e servizi:

Il nostro prodotto Fused Silica Wafer è progettato per soddisfare i più elevati standard di qualità e fornire prestazioni affidabili in una varietà di applicazioni.Il nostro team di supporto tecnico è disponibile per aiutarvi con qualsiasi domanda o preoccupazione che potreste avere riguardo all'uso e alla gestione del nostro prodotto.

Offriamo una serie di servizi per garantire che i nostri Wafer di silice fuso soddisfino le vostre esigenze specifiche.Offriamo anche servizi di ispezione e di prova dei wafer per garantire la qualità e l'affidabilità del nostro prodotto.

Il nostro team di tecnici e ingegneri esperti è dedicato a fornirvi il supporto e i servizi necessari per raggiungere i vostri obiettivi.Contattaci oggi per saperne di più sul nostro prodotto Wafer di silice fuso e su come possiamo aiutarti a soddisfare i tuoi requisiti tecnici.

 

Imballaggio e trasporto:

Imballaggio del prodotto:

La Wafer di silice fuso sarà accuratamente collocata in un contenitore di plastica per evitare danni durante il trasporto.Il contenitore deve essere sigillato e collocato in una scatola di cartone robusta con padding appropriato per impedire qualsiasi movimento durante il trasporto.

Spedizione:

La Wafer di silice fuso verrà spedita tramite un servizio di corriere affidabile per garantire la consegna tempestiva e sicura.Un numero di tracciamento sarà fornito al cliente per tracciare il pacco durante il transito.

 

FAQ:

R: Il nostro wafer di silice fuso è del marchio BonTek.

D: Quali sono i numeri di modello disponibili per il vostro wafer di silice fuso?

R: Abbiamo due numeri di modello disponibili, Silice Fuso e Quarzo Fuso.

D: Quali certificazioni ha il suo wafer di silice fuso?

R: Il nostro wafer di silice fuso ha le certificazioni ISO:9001 e ISO:14001.

Q: Qual è la quantità minima di ordine per il vostro wafer di silice fuso?

R: La quantità minima di ordine per il nostro wafer di silice fuso è di 5 pezzi.

D: Qual è il metodo di imballaggio per il vostro wafer di silice fuso?

R: Il nostro wafer di silice fuso viene confezionato in cassetta/barattolo e sigillato sotto vuoto per una consegna sicura.

D: Quali condizioni di pagamento accettate per il vostro wafer di silice fuso?

A: Accettiamo il pagamento tramite T/T.

D: Qual è la capacità di approvvigionamento per il vostro wafer di silice fuso?

R: Il nostro wafer di silice fuso ha una capacità di fornitura di 20.000 pezzi al mese.

D: Quanto tempo ci vuole per la consegna della sua wafer di silice fuso?

R: Il tempo di consegna per il nostro wafer di silice fuso è tra 1-4 settimane.

D: Il prezzo della sua wafer di silice fuso è negoziabile?

R: Sì, il prezzo per il nostro wafer di silice fuso è negoziabile in base alla quantità dell'ordine.

 

JGS1 JGS2 JGS3 Glass and Quartz wafer for Superior Optical Clarity Chemical Stability

JGS1 JGS2 JGS3 Glass and Quartz wafer for Superior Optical Clarity Chemical Stability

JGS1 JGS2 JGS3 Glass and Quartz wafer for Superior Optical Clarity Chemical Stability

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Hangzhou Freqcontrol Electronic Technology Ltd.

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  • Entrate annuali: 800M-1500M
  • Dipendenti: 10~99
  • Anno di fondazione: 1999