Obiettivi di titanio non tossici non magnetici di OD380*23mm

L'obiettivo di titanio Gr2 ASTM B381-06 un OD380*23 che farfuglia l'obiettivo che farfuglia i materiali mira a farfugliare

L'obiettivo ricoprente è una fonte farfugliare che forma i vari film funzionali sul substrato dal magnetron che farfuglia, placcatura dello ione dell'multi-arco o altri tipi di sistemi di rivestimento nelle circostanze tecnologiche appropriate. Per metterlo semplicemente, il materiale di obiettivo è il materiale di obiettivo del bombardamento ad alta velocità delle particelle fatte pagare. Una volta utilizzate in armi laser ad alta energia, le densità di potenza differenti, le forme d'onda differenti dell'uscita e le lunghezze d'onda differenti del laser interagiscono con differenti obiettivi, uccisione differente e gli effetti della distruzione saranno prodotti. Per esempio, il magnetron evaporativo che farfuglia il rivestimento è rivestimento riscaldato di evaporazione, film di alluminio, ecc. cambia il materiale di obiettivo differente (quali acciaio inossidabile di alluminio, di rame, il titanio, l'obiettivo del nichel, ecc.), può ottenere il sistema differente del film (quali il film duro, resistente all'uso, resistente alla corrosione eccellente della lega, ecc.).

Rispetto alla tecnologia ricoprente bagnata, la tecnologia del rivestimento di vuoto presenta i seguenti vantaggi:
(1) i film sottili ed i substrati hanno ampia selezione dei materiali e lo spessore di film può essere controllato per preparare i film funzionali con le varie funzioni.
(2) preparare i film sottili sotto vuoto, l'ambiente pulito ed i film sottili non sono contaminati facilmente. Di conseguenza, i film con buon densification, elevata purezza e rivestimento uniforme possono essere ottenuti.
(3) la forza di legame fra il film ed il substrato è buona ed il film è costante.
(4) il rivestimento a secco non produce il liquido o l'inquinamento ambientale residuo.
La tecnologia del rivestimento di vuoto pricipalmente comprende l'evaporazione sotto vuoto, il vuoto che farfuglia, la placcatura dello ione di vuoto, il deposito del fascio di vuoto, applicazione a spruzzo chimica ecc. Oltre ad applicazione a spruzzo chimica, altri metodi hanno le seguenti caratteristiche comuni:
(1) tutti i tipi di tecnologie ricoprenti richiedono un ambiente specifico di vuoto per assicurare il movimento delle molecole del vapore formate nel corso di evaporazione di riscaldamento o del farfugliare, per non essere colpito, per bloccato e per non interferito da tantissime molecole del gas nell'atmosfera e per eliminare gli effetti nocivi delle impurità nell'atmosfera.
(2) tutte le tecnologie ricoprenti richiedono partenza o arrivo di convertire i materiali del film di evaporazione in gas. dovuto il miglioramento continuo di partenza o di arrivo, la gamma di selezione di materiali di produzione cinematografica notevolmente è stata ampliata. Il metallo, le leghe del metallo, i composti intermetallici, la ceramica o i materiali organici possono essere evaporati con i vari film del metallo ed i film dielettrici e possono anche essere ottenuti evaporando i materiali differenti allo stesso tempo.
(3) l'evaporazione o i materiali farfugliati di produzione cinematografica può essere misurato e controllato esattamente nel corso della formazione dei film sottili con il pezzo in lavorazione da placcare, in modo da assicurare l'uniformità dello spessore di film.
(4) ogni film può controllare esattamente la composizione e la frazione di massa di gas residuo nella camera ricoprente per mezzo di una valvola di aggiustamento di precisione, quindi impedicenti l'ossidazione del materiale d'evaporazione, riducenti la frazione di massa di ossigeno ad un minimo e riempienti il gas inerte, che è impossibile per rivestimento bagnato.
(5) dovuto il miglioramento continuo dell'attrezzatura ricoprente, il processo di rivestimento può essere realizzato continuamente, quindi notevolmente non migliorando l'uscita del prodotto ed inquinamento all'ambiente durante il processo di produzione.
(6) perché il film è fatto nel vuoto, la purezza del film è alta, la densità è buona e la superficie è luminosa senza elaborare. Ciò fa le proprietà meccaniche e chimiche del film migliore di quello del film electrodeposited e del film chimico.

1. Densità bassa ed alta forza di specificazione
2. resistenza della corrosione eccellente
3. buona resistenza ad effetto del calore
4. cuscinetto eccellente alla proprietà di criogenia
5. non magnetico e non tossico
6. buone proprietà termiche
7. modulo di elasticità basso